双光束超分辨光刻技术的发展和未来

谢大乐, 艾星星, 甘棕松

科技导报 ›› 2024, Vol. 42 ›› Issue (8) : 21-28.

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科技导报 ›› 2024, Vol. 42 ›› Issue (8) : 21-28. DOI: 10.3981/j.issn.1000-7857.2023.06.00884
专题：关键技术与创新驱动

双光束超分辨光刻技术的发展和未来

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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Development and future of dual-beam super-resolution lithographic technology

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zhaiyao_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2024, 42(8): 21-28 https://doi.org/10.3981/j.issn.1000-7857.2023.06.00884
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2024, 42(8): 21-28 https://doi.org/10.3981/j.issn.1000-7857.2023.06.00884
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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
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