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  2009, Vol. 27 Issue (0920): 19-21    DOI:
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腔室长时间使用造成的工艺漂移对微晶硅薄膜性质的影响
张 鹤,戴志华,张晓丹,魏长春,孙 建,耿新华,赵 颖
南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津 300071
Effects of Drift Due to Chamber's Long-time Usage on Microcrystalline Silicon Properties
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